打造具有国际竞争力的平台型企业集团

证券时报记者 王一鸣

“工欲善其事，必先利其器。”半导体产业亦如此：没有能加工出人头发丝几千分之一到上万分之一尺度的半导体设备，就无法造出芯片。

在高精尖的国际半导体微观加工设备领域，作为后起之秀的中微公司如今已成长为极具竞争力的一颗新星。在美国知名咨询机构VLSI Research举办的全球半导体设备公司“客户满意度”调查和评比中，中微公司2018年、2019年及2021年综合评分为全球第三、第四。中微公司2020年荣登福布斯“中国最具创新力企业榜单”，2022年荣膺福布斯中国创新力企业50强。

中微公司一系列成绩的取得，与公司创始人尹志尧息息相关，他是几代等离子体刻蚀技术及设备的主要发明人和工业化应用的推动者之一，是400多项专利的主要发明人，领导开发了一系列成功的等离子体刻蚀设备。尹志尧本人也于2020年被福布斯中国评选为50名中国最佳CEO之一。

要探究这位传奇半导体人的经历，得将时光拨至上世纪六七十年代：1967年尹志尧获中国科技大学化学物理学士学位，曾在石化部兰州炼油厂及中科院兰州化物所工作；1978年他进入北京大学化学系就读研究生，1980年赴美留学，于1984年获得了美国加州大学洛杉矶分校（UCLA）物理化学博士学位。之后，尹志尧在美国硅谷20年，致力于等离子体刻蚀设备的开发，产品管理和市场化。

2004年，尹志尧辞任海外高管职位选择回国创业，以科技回报祖国；自中微公司成立以来，尹志尧一直担任公司的董事长兼总经理，将自己超过28年的产品开发和行政管理经验应用于公司管理，在他的领导和推动下，中微公司在产品研发和市场拓展方面不断取得突破，成为一家以中国为基地、面向全球的微观加工高端设备公司，为集成电路和泛半导体行业提供极具竞争力的高端设备和高质量的服务。

作为科创板首批上市公司之一，目前，中微公司开发的一系列刻蚀设备和MOCVD设备，已在性能和性价比进入国际三强行列，部分产品在细分领域市占率全球排名第一位。其中，刻蚀设备技术能力达到5纳米及更先进工艺水平，MOCVD设备在Mini LED等氮化镓基设备市场占有率遥遥领先。

展望未来，尹志尧在为2021年年报的致辞中曾写道：在过去的10年中，中微一直保持了年销售持续超过 30%的高速增长，为给今后的10年到15年的高速增长打下坚实的基础……我们深知任重道远，将紧紧围绕公司在集成电路和其它半导体设备上的核心竞争力规划公司的未来发展，心无旁骛地做大做强主业，同时也会与时俱进，积极探索介入其它符合公司核心竞争力的发展机会，在总体上扩大在半导体和泛半导体领域的版图，通过内部孵化发展和外延并购等方式实现协同发展，让业绩增长更有持续性，抵御行业周期波动的能力更强，综合经营水平更高，规模和效益潜力的底垫更厚，在技术进步、规范治理、业务发展、业绩增长等方面保持良好势头，并不断向国际先进水平看齐，在充分把握国内市场机会的同时，坚持进行理性的国际市场布局，打造具有国际竞争力的平台型企业集团。