5100万元造光刻机，俄罗斯芯片只有65nm，却要挑战微电子黑科技？

在大家的印象中，俄罗斯电子工业似乎还停留在电子管时代，无论是民用芯片，还是军用芯片，都依赖进口，甚至是走私。不过，其实俄罗斯也有几家半导体企业能够生产芯片，比如Mikron。

俄罗斯半导体企业Mikron

Mikron的芯片制程目前只达到65nm，主要用于银行卡、智能电表等支付产品上。而这还是俄罗斯于2006年耗资2.3亿美元从法国引进的，初始生产工艺为180nm，2010年升级为90nm芯片制程，直到2016年，才开始量产65nm的芯片。而从2016年至今，近6年时间了，其芯片制程一直没有进步。

Mikron落后的设备

然而就是如此落后的芯片制程，依然没能逃过美国的制裁。据媒体报道，4月1日，美国财政部外国资产控制办公室宣布对俄罗斯21家实体企业和13个个人实施制裁，其中就包括Mikron，而Mikron是俄罗斯第一芯片制造商、微电子制造商和出口商。

在美国看来，俄罗斯Mikron制造的芯片，不仅可以用于银行卡和智能电表上，也可以军用。比如F-22隐形战斗机的CPU只有25MHZ，F-35也用只有500MHZ的老式powerpc，其芯片制程就是65nm，直到去年刚刚进行升级为更先进的芯片，所以美国仍视俄罗斯的65nm芯片制造能力为“眼中钉”，欲先除之而后快。

面对美国的制裁，俄罗斯的反应自然十分强烈，立刻宣布要投入6.7亿卢布，约合5100万元人民币的资金，开发能达到EUV级别的无掩模X射线光刻机，顾名思义这是一种使用X射线技术，不需要光掩模就能生产芯片的设备，其具体研制工作由俄罗斯莫斯科电子技术学院承接。

具有X射线透射率控制的无掩模X射线光刻方案

对于俄罗斯的决心，外界普遍表示怀疑，这种先进的光刻机，连阿斯麦也做不到，况且还只要花那么少的钱，就更难以相信了。不过，6.7亿卢布显然只是启动资金，而且目前俄罗斯虽然被全面制裁，但也换来了一个优势，那就是可以不顾西方国家的专利技术，只要有需要，就敢拿着现成的东西直接用，这就为它省了很多事。实际上，目前世界的专利保护规则，虽然能够激发科技创新的热情，但专利壁垒多了之后，很多程度上又阻碍了科技和文明的发展。

带有X射线反射系数控制的无掩模X射线光刻方案

从某种程度上说，俄罗斯早在15年前，就可以为EUV无掩模X射线光刻机做技术储备了，而且俄罗斯物理学和数学的底子非常厚，在X射线和等离子技术上有不低的造诣，光学很早就得到了蔡司的真髓，设计也非常厉害，基础条件并不差，现在又绕开了专利壁垒，可以专心解决工艺难题，未必不能实现目标。当然，俄罗斯目前最缺的，还是资金。

有意思的是，近日，央企中国长城也打破了日本DISCO的垄断，推出晶圆激光开槽设备，支持5nm等多种工艺。这是一种非常重要的封装设备，可以将做好的芯片整片晶圆按芯片大小分割成单一的芯片，进而封装成商品，晶圆的切割技术对提高成品率和封装效率有着重要影响。

所以中俄无论是谁，能率先打破西方的垄断都是好事。而且两国在电子领域本就有非常强的互补性，我们工程应用做得好，俄罗斯基础研究做得扎实，双方合作又不设上限，没准真能一起建立一套独立于西方之外，甚至比西方更先进得现代电子工业。