日前，满天芯曾报道了。
而这次，韩国存储器大厂SK海力士也在这方面遇阻了。这次更是和ASML最先进的极紫外光（EUV）光刻机有关。
据路透社报道，韩国SK海力士原定改造旗下中国江苏无锡厂，预计引进荷兰ASML最新极紫外光（EUV）微影技术光刻机，进而提高存储器芯片生产效率的计划，因受到美国不希望该过程中使用的先进设备进入中国而受挫。
报道指出，这一潜在的挫折可能使SK海力士，成为下一家卷进中美地缘政治之争的企业。
SK海力士内部的担忧以前没有被报道过，如果这种情况在未来几年内得不到解决，SK海力士可能会在与三星电子和美国美光等对手的竞争中处于不利地位。
SK海力士是世界上最大的动态随机存取内存（DRAM）内存芯片供应商之一，从智能手机到数据中心的各个领域都使用这种芯片。
三位知情人士表示，SK海力士的生产计划要求公司以荷兰ASML最新极紫外光（EUV）微影技术的光刻机为无锡厂的一个量产设施进行升级。
美国过去曾表示反对，理由是将这类先进工具运至中国，可能被用于强化该国的军事力量。一位白宫高级官员表示，拜登政府仍专注于防止中国利用美国和盟国的技术来发展最先进的半导体制造。
无锡这家工厂对全球电子行业至关重要，生产SK海力士约半数的动态随机存取内存芯片，占全球总量的15%，任何重大变化都可能对全球存储器市场产生影响。 分析公司IDC指出，光是2021年，全球存储器市场的需求就将增长19%。
一名了解SK海力士在中国营运情况的消息人士说，随着两到三年后新型芯片在SK海力士的生产中占据更大市占，该公司将需要EUV光刻机来控制成本并加速生产。
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