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苹果有望在明年推出三款新iPhone，这是iPhone XS，XS Max和iPhone XR的直接后续产品。该公司预计不会进行任何重大的设计变更，这意味着Apple的缺口设计将继续保留。然而，一位泄密者声称，2020年的iPhone型号将采用三星目前正在做的事情进行屏幕重新设计。我们谈论的是没有缺口的Infinity-O屏幕，因为自拍孔穿过屏幕。但不要以为苹果正准备简单地复制三星的新智能手机设计。
这是因为苹果公司在2016年提交了一项描述钻孔技术的专利，早在iPhone X及其缺口设计到来之前。
一位在推特和微博上名为Ice Universe并且通常专注于三星泄密的中国泄密者，几天前发布了以下消息。根据他的说明，2019年的iPhone仍将有一个缺口，2020款将采用穿孔设计。
虽然苹果公司在推出之前已经很好地确定了下一代iPhone的设计，但对于2020年的iPhone泄密来说可能还为时过早，所以我们将有足够的时间等待，看看泄密者的信息是否准确。
苹果之前的专利涉及在显示屏中钻孔相机孔所需的制造工艺的大量技术细节。请记住，苹果没有像三星这样的显示器制造部门。但苹果正在研究将在未来几个月内扩散的相同屏幕技术。尽管Galaxy S10的Infinity-O屏幕预计会更加复杂，但三星和华为都在过去几周推出了带摄像头孔的显示屏。
此外，如果苹果确实推进了2020年的传闻设计，我们应该期待iPhone制造商能够找到一种方法来保持iPhone上的面部识别功能，而不会出现缺口。正如我们之前解释的那样，Galaxy S10可能有一个令人兴奋的设计，但三星在其手机上没有复杂的3D面部识别。
本文来源：cnbeta网站
责任编辑：
陈功_NT3893
