四川
全网都在热议黄仁勋婚外情事件时，咱们国内悄悄出了一件大事，好像没有引起太多的声响！那就是，我国新一代光刻机模型亮相！
而且关键零部件国产化率突破90%！
应该很快就能具备百分百国产的能力了！
光刻机，这可是工业皇冠上的明珠，国外用光刻机技术把我们的脖子卡得死死的！具体情况大白看了下！是近日在上海举行的第九届中国国际进口博览会。中国馆里，新一代前道干式扫描投影光刻机SSC800和SSB800的透明剖视模型展示出来了，由上海微电子制造。
SSC800采用KrF光源，覆盖110纳米及以上制程，适用于存储芯片、微处理器、MicroLED等产品。SSB800采用I-line光源，覆盖280纳米及以上制程，适用于功率半导体、模拟IC、MEMS等产品。
特别强调的是高精度物镜、照明系统、双工件台、掩模台、自动物料传输、对准调平，全链条都是自主可控，关键零部件国产化率突破90%。
还有三个产线数据非常重要，首先是多台设备已在头部逻辑和存储产线长期运行，累计流片超千万片，有效运行率超92%。这些展出的光刻机模型不只是实验室展品，92%的有效运行率意味着晶圆厂可以将其纳入正式生产排期，避免晶圆浪费。
这次亮相的是干式机，不是浸没式ArF，DUV、也不是EUV。SSC800的110纳米能力不能被理解为"28纳米光刻机"，它是在干式框架内把成熟制程做到可替代、可量产。汽车电控、工控、家电、功率器件大量使用的是这些节点，这部分先跑通自主供给，意义已经很大。
28纳米浸没式DUV还在攻坚，EUV光源和整套极紫外系统离自主量产还有距离。
所以这件事标志着成熟制程的自主供应能力开始落地了，而不是说卡脖子问题已经完全解决。
评论区的网友们也是纷纷留言。
有人表示终于看到透明剖视模型，敢把光路和工件台拆开给人看，本身就是工程能力的体现，千万片流片比任何参数都有说服力。
有人指出干式机要客观看待，不能和EUV混为一谈，但92%运行率放在晶圆厂生产计划里就是可以排产的数字。
有人冷静说下一步看28纳米浸没式能不能稳定交付，那才是对国产产业链真正的大考。
也有人提醒资本市场别光炒概念，光学镜头、双工件台、光刻胶这些配套环节，才是接下来真正能出业绩的地方。
读者朋友们，你们怎么看这次国产光刻机亮相呢？评论区一起聊聊。
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