上海
近日，第十六届中国国际纳米技术产业博览会（CHInano 2026）暨第七届中国MEMS制造大会在苏州国际博览中心举行。本届大会聚焦MEMS制造、第三代半导体、先进封装等前沿赛道，汇聚350余家领先企业，是纳米技术及半导体制造领域极具影响力的年度盛会。迅杰光远全资子公司——无锡光远芯程科技有限公司携半导体湿法制程在线监测解决方案参展，其自主研发的化学药液浓度计系列产品荣获本届大会“创新产品奖”。
从“离线抽检”到“在线闭环”，直击湿法制程浓度管控痛点
在芯片制造的湿法清洗、刻蚀等关键工艺中，化学药液浓度的精确管控直接关乎晶圆良率与生产成本。传统人工抽样与离线检测存在滞后性和人为误差，难以捕捉药液因蒸发、消耗或交叉污染产生的微小浓度波动，这类波动往往成为制约产线效率与良率的“隐形刺客”。
针对这一行业共性难题，光远芯程展出的高精度化学药液浓度计给出了在线监测的解决路径。该设备基于近红外光谱分析技术，可直接集成至晶圆清洗机、刻蚀设备的药液循环管路中，实现对关键溶液成分的7×24小时不间断、高精度实时监测。设备秒级输出浓度数据，并与产线控制系统联动，实现闭环定量补液与自动调节，将药液浓度始终稳定在不错的工艺窗口内。这一“即测即控”模式，不但降低了化学品无谓消耗与异常返工率，也为湿法制程的数字化、智能化管控提供了坚实的技术支撑。
在工艺适配性方面，该方案可覆盖SC系列（SC1/SC2）、SPM/DSP、DHF、BOE、TMAH等典型药液体系，灵活满足晶圆清洗、湿法蚀刻、去胶、CMP抛光等多道关键工序的监测需求。设备采用防腐蚀设计，可适应高温、高压及强腐蚀等严苛工况，并支持在线自动校准与数据追溯，可通过多种标准工业通讯接口无缝接入现场工控系统。
创新产品奖背后：国产近红外光谱的“硬核突围”
此次荣获“创新产品奖”，既是对光远芯程在半导体过程控制领域技术突破与产品价值的高度认可，也体现了国产近红外光谱技术在半导体产线在线监测场景中的落地进展。依托母公司迅杰光远在近红外光谱分析领域的长期积淀，光远芯程将光谱技术从实验室推向半导体产线前线，攻克了高纯度、高腐蚀性的药液的材料兼容性难题。
值得一提的是，迅杰光远已成为国内率先实现近红外浓度计在半导体清洗设备上批量化应用的国产品牌，在认证严苛、导入门槛高的半导体设备市场打开了国产替代的突破口。目前，公司已为多家半导体装备企业提供专业解决方案，其中包含头部装备企业。
CHInano 2026虽已落幕，但公司在半导体在线监测赛道的深耕才刚刚提速。面向未来，公司将继续依托近红外光谱，持续丰富化学药液浓度计产品矩阵，并逐步拓展至先进封装、FPD 及光伏等高精尖场景，以更精确、更可靠、更智能的光谱监测方案，助力中国半导体产业链在湿法制程环节实现更高水平的自主可控与良率提升。
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