北京
国家知识产权局信息显示，浙江大华技术股份有限公司申请一项名为“电磁波屏蔽膜及其制备方法和应用”的专利，公开号CN122995118A，申请日期为2026年8月。
专利摘要显示，本发明涉及一种电磁波屏蔽膜及其制备方法和应用，所述电磁波屏蔽膜包括：至少一个高频层和至少一个低频层，两者交替层叠设置；高频层包括第一基体、屏蔽频段为x的高频软磁复合材料和第一电磁屏蔽颗粒；低频层包括第二基体、屏蔽频段为y的低频软磁复合材料、第二电磁屏蔽颗粒，60≤x≤80GHz，1≤y≤4GHz；第一电磁屏蔽颗粒和第二电磁屏蔽颗粒的孔隙率范围独立地选自15%~45%，第一电磁屏蔽颗粒和第二电磁屏蔽颗粒分别包括第三基体以及分散于第三基体的复合填料和导电纤维，第三基体的材料至少包括石墨烯，复合填料包括拓扑绝缘体和软磁合金。本发明的电磁波屏蔽膜能够实现对有用信号的选择性透传以及对干扰信号的有效屏蔽，并具有较高的柔性。
天眼查资料显示，浙江大华技术股份有限公司，成立于2001年，位于杭州市，是一家以从事软件和信息技术服务业为主的企业。企业注册资本326926.2074万人民币。通过天眼查大数据分析，浙江大华技术股份有限公司共对外投资了71家企业，参与招投标项目10524次，财产线索方面有商标信息324条，专利信息11495条，此外企业还拥有行政许可408个。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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