北京
国家知识产权局信息显示，湖南融创微电子股份有限公司申请一项名为“一种单粒子翻转的后仿真逻辑注入方法”的专利，公开号CN122987565A，申请日期为2026年9月。
专利摘要显示，本发明涉及微电子抗辐射仿真技术领域，提供一种单粒子翻转的后仿真逻辑注入方法，通过高阻抗物理隔离选通模块引入开关的高阻抗隔离特性，保护了正常仿真阶段待测集成电路的静态和时序工作点不受外部激励源多寄生参数影响，同时利用可配置时序脉冲生成模块产生分段线性脉冲提供精准时序控制，实现了对存储节点在特定时刻逻辑状态翻转的确定性注入，这种跳过物理过程直接强制逻辑跳变的测试结构，能够直接在仿真层面复现最终存储节点翻转结果，便于在前期评估系统级抗单粒子翻转能力，显著提高了设计人员在抗辐照后端验证中的效率。
天眼查资料显示，湖南融创微电子股份有限公司，成立于2014年，位于长沙市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本2696.2077万人民币。通过天眼查大数据分析，湖南融创微电子股份有限公司共对外投资了2家企业，参与招投标项目26次，财产线索方面有商标信息4条，专利信息82条，此外企业还拥有行政许可1个。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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