北京
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国家知识产权局信息显示，ASML荷兰有限公司申请一项名为“致动器和光刻、衬底检查或晶片量测设备”的专利，公开号CN122971796A，申请日期为2025年3月。
专利摘要显示，一种致动器，包括线圈和磁体布置。所述线圈被布置在由第一方向和第二方向限定的平面中，其中，所述线圈中的主线圈部分在所述第一方向上延伸。所述磁体布置包括被布置在所述线圈的相反侧处的第一磁体部分和第二磁体部分，每个磁体部分包括具有不同的偏振方向的中心磁体单元和边缘磁体单元。所述两个磁体部分的所述中心磁体单元在与所述线圈的所述平面垂直的第三方向上大致对准，并且每个中心磁体单元都具有在所述第三方向上的偏振方向，其中所述两个磁体部分的所述中心磁体单元的所述偏振方向彼此相反。所述磁体布置被配置成产生在所述第二方向上大致横向于所述主线圈部分的初级磁通量。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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