北京
国家知识产权局信息显示，苏州天禄光科技股份有限公司申请一项名为“一种局部反射带宽加权的聚合物反射膜设计方法”的专利，公开号CN122945253A，申请日期为2026年7月。
专利摘要显示，本发明涉及光学薄膜设计和聚合物多层干涉反射膜技术领域，尤其涉及一种局部反射带宽加权的聚合物反射膜设计方法。该方法获取目标反射波段、有效层对数量及高、低折射率聚合物材料的折射率色散数据，建立色散设计参数集；计算局部归一化反射带宽和局部绝对反射带宽，取局部绝对反射带宽的倒数形成中心反射波长分布权重序列；累计所述分布权重，按有效层对数量等权划分总累计权重并反解非线性中心反射波长序列；读取各中心反射波长处的高、低折射率，按照四分之一波光学厚度条件计算膜层物理厚度，生成聚合物多层反射膜结构参数集。本发明使有限层对的分布密度与局部反射覆盖宽度相匹配，减少层对重复分配和局部分布不足。
天眼查资料显示，苏州天禄光科技股份有限公司，成立于2010年，位于苏州市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本11031.8358万人民币。通过天眼查大数据分析，苏州天禄光科技股份有限公司共对外投资了13家企业，参与招投标项目55次，财产线索方面有商标信息2条，专利信息167条，此外企业还拥有行政许可29个。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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