上海
10 月 21 日消息，日本富士胶片正在扩充极紫外（EUV）光刻胶产能，以此深化与三星电子的合作，部分产品已经通过客户认证测试。
富士胶片美国电子材料事业部总裁、富士胶片副总裁布莱恩・奥唐纳利近期接受《THE ELEC》采访时表示：“我们在平泽建厂生产 EUV 光刻胶，工厂紧邻客户。虽然尚未进入全面量产阶段，但部分 EUV 光刻胶产品已经通过头部客户的认证测试。”
富士胶片同时扩建了位于日本静冈与韩国平泽的 EUV 光刻胶生产设施。静冈是该公司先进光刻胶研发与生产的核心基地；而平泽选址靠近大客户三星电子，用来生产其最高阶产品。两处基地的 EUV 光刻胶生产及检测设备均已于 2025 年 10 月投入运行。
奥唐纳利表示：“贴近客户，能够让我们快速响应产品规格调整，也便于量产后提供技术支持。对于面向下一代工艺开发产品的材料厂商而言，联合开发至关重要，就近布局能让我们从研发早期阶段就和客户协同工作。”
富士胶片对一处既有厂区进行改造扩建，用于生产先进半导体工艺所需的高价值材料。其平泽工厂此前主要生产图像传感器用彩色滤光片材料，该材料可让单个像素透过特定色光，以此还原彩色影像，富士胶片在该品类的全球市占率超过 80%。
“人工智能正在拉动 2 纳米及以下工艺的材料需求，” 奥唐奈利谈到，“先进制程迭代升级，抬升了氟化氩（ArF）光刻胶与 EUV 光刻胶的市场需求。”
光刻胶是光刻工序中涂覆在半导体晶圆上的感光材料，曝光设备投射光线，在晶圆上形成电路图案。EUV 光刻胶是先进逻辑芯片与存储芯片缩小电路尺寸的关键材料。该材料开发难度极高，既要生成纳米级均匀图案，还要尽可能降低缺陷；材料性能需要针对客户工艺做精细调校，并且反复验证，研发与认证周期漫长。
由于材料厂商很难独自购置价格高昂的 EUV 光刻设备，富士胶片借助比利时半导体研究机构 imec 的联合研发基础设施开展开发工作。荷兰 ASML 是 EUV 光刻机的独家供应商，单台设备成本约 2500 亿至 5000 亿韩元。imec 通过项目模式，集合半导体制造、设备及材料企业，提供搭载高端设备的研发环境。
奥唐纳利称：“我们先用自有设备完成初步建模，再利用 imec 的 EUV 光刻机反复迭代优化产品。即便是 JSR 这类市占率很高的 EUV 光刻胶供应商，也无力单独采购昂贵的 EUV 设备，因此会通过产业联盟开展合作。”
富士胶片同时还在三星天安园区附近扩建化学机械抛光（CMP）研磨液工厂，计划将产能提升约 30%，新增产线预计 2027 年上半年投产。在铜互连 CMP 研磨液领域，富士胶片拥有全球最高市场份额。
在美国市场，富士胶片于得克萨斯州卡罗尔顿设有工厂，毗邻三星泰勒晶圆厂。“三星在泰勒建厂，因此我们也在得州布局生产基地，” 奥唐奈利表示，“我们需要提前布局，应对客户后续扩产带来的需求。”
奥唐纳利着重介绍了富士胶片的 “一站式解决方案” 战略，业务覆盖光刻胶、CMP 研磨液、清洗化学品、前驱体、封装材料供应。依托全球 18 处生产基地，富士胶片希望和客户联合开发、生产各类工艺材料，并配套提供技术服务。
富士胶片在英特尔、台积电所在的亚利桑那州设有工厂；在中国台湾新竹、台南也布局产线，服务台积电、联电等半导体企业；欧洲的五处生产基地，则面向车载半导体等客户的材料需求。
“终端客户需求驱动着材料行业发展，韩国具备极高的战略地位。” 奥唐纳利说道，“我们目标成为一站式方案服务商，在客户产线就近交付所需的材料与技术。” 他还补充：“目前我们在韩国已有两座生产工厂，同时正在评估多种扩产方案，进一步贴近、服务客户。”
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