北京
国家知识产权局信息显示，苏州鸿科新材料科技有限公司申请一项名为“一种光固化离型膜及其制备方法”的专利，公开号CN122941047A，申请日期为2026年9月。
专利摘要显示，本发明属于离型材料技术领域，具体涉及一种光固化离型膜及其制备方法。该离型膜包括基材和离型层，离型层由含有端丙烯酸酯聚二甲基硅氧烷、侧丙烯酸酯有机硅树脂、丙烯酸酯改性MQ硅树脂及有机硅改性光引发剂的无溶剂光固化组合物经光固化形成；其制备方法包括基材双面电晕处理与除尘、微凹版涂布、斜角UV固化及冷却收卷。本发明实现了剥离力宽范围可调，同时抑制了硅转移与剥离力爬升，保证了涂层固化均匀性与基材附着力，所得离型膜兼具高残余粘着率、低离型力爬升、无擦脱及良好外观的特点，适用于标签、胶带等压敏胶制品的离型保护及光学、电子领域的工艺载体离型膜。
天眼查资料显示，苏州鸿科新材料科技有限公司，成立于2019年，位于苏州市，是一家以从事橡胶和塑料制品业为主的企业。企业注册资本285万人民币。通过天眼查大数据分析，苏州鸿科新材料科技有限公司共对外投资了2家企业，参与招投标项目2次，财产线索方面有商标信息2条，专利信息22条，此外企业还拥有行政许可6个。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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