国外封锁EUV光刻设备多年，中国亮出15瓦样机，连续运行超百小时

大家好，我是你们的小志，15瓦的光：国产EUV光源样机亮相工博会，距离量产还有多远。

2026年10月，第二十六届中国国际工业博览会在上海举行，创新科技馆的展台上，一台金属柜体模样的设备被围了不少人，标签上写着：极紫外（EUV）光源系统样机。

这台样机来自一家成立仅两年的上海公司——朗道燧岩，根据现场工作人员的介绍和公司官网公布的技术参数。

该系统国产化率达到90%，EUV能量输出大于15瓦，持续工作时间超过100小时，目前可用于芯片曝光测试，但距离商业化量产仍需3至5年。

15瓦是什么概念？ASML自2018年起用于批量生产的EUV光源功率为250瓦，目前正在向1000瓦级别演进。

15瓦与250瓦之间，差着一个数量级以上的工程距离，所以，最需要先说清楚的一件事是：这是一次真实的工程进展，但它不是“EUV光刻机已经成了”的宣告。

样机跨过了什么，没有跨过什么

EUV光源是高端光刻机最核心的子系统之一，它的工作原理是用高功率激光轰击锡液滴，产生等离子体，激发出波长13.5纳米的极紫外光。

这个波长极短，整个光路必须在真空中运行，对功率、稳定性和连续运行能力的要求都极为苛刻。

朗道燧岩展出的低功率系统FlintNano LPP-OXXO，公布的关键参数包括：驱动激光功率1000W，激光频率1—20kHz，转换效率大于2%，EUV能量大于15W，持续工作时间超过100小时，等离子体稳定性3% RMS，能量稳定性5%。

技术路线与国际主流的激光诱导等离子体（LPP）路线一致，这一点本身具有意义：它说明方向选择与产业共识没有偏离。

样机完成的是“可行性验证”这一步，从原理上讲，它能产生EUV光，能维持超过100小时的连续运行，能进入芯片曝光测试环节，这意味着它不是通电亮一下就关掉的实验室演示，而是一台进入了工程验证阶段的设备。

但它没有完成的，是产业化必须跨过的那道门槛，商用EUV光刻系统要求光源功率达到数百瓦级别，并且能够在产线上长时间不间断稳定运行。

从15瓦到250瓦乃至更高，每一瓦的提升都涉及激光器功率、锡液滴控制精度、等离子体稳定性、收集镜寿命和系统集成可靠性的同步推进，没有可以“跳过去”的环节。

现场工作人员所说的“3至5年”，针对的正是这个功率爬坡与可靠性验证的过程。

一个容易被忽略但值得注意的细节是，朗道燧岩将大功率CO2激光器和等离子体仿真软件作为独立业务板块布局，而非只做光源本体。

光源功率上不去，根源往往在驱动激光器和等离子体控制；把这些底层环节单独拿出来做，说明推进思路不是“先把样机点亮再说”，而是知道瓶颈在哪里、并且尝试在瓶颈处布点。

封锁的背景是真实的，但“突破”需要放在时间尺度上看

西方对中国EUV设备的出口限制，是一个有据可查的事实，2018年至2019年，美国曾展开外交施压，试图阻止ASML向中芯国际出售一台价值约1.5亿美元的EUV光刻机。

此后，EUV光刻机对华出口的通道始终没有打开，ASML至今是全球唯一能够制造并交付商用EUV光刻机的厂商。

在这种背景下，一台国产EUV光源样机出现在工博会的展台上，传递的信号是清晰的：在外部供应通道持续关闭的条件下，国内确实有主体在投入EUV光源的自主研发，并且已经走到了公开样机的阶段。

但把这个信号放在正确的时间尺度上，同样重要。

黄仁勋在2026年9月的All-In峰会上判断，中国到2030年可能做出自己的先进光刻系统；蔡司半导体负责人则估计国产EUV光刻机可能需要约15年。

两个判断指向的时间尺度不同，关注的细分对象也有差异（“先进光刻”与“EUV光刻机”并不完全等同），但它们共同说明一件事：外界并不认为EUV的工程门槛会因为一台15瓦样机而消失。

这里需要做一个区分：“有没有人做”和“能不能在商业上替代”，样机的意义在于回答了第一个问题——有，而且路线是对的，但它不能自动回答第二个问题。

ASML的EUV光源从早期研发到250瓦批量生产，经历了多年的工程迭代和供应链整合，功率爬坡、长周期可靠性验证、整机系统集成，这些环节的推进速度不取决于决心，而取决于数据和迭代次数。

3至5年的估计如果被理解为“量产时间表”，是紧凑的；如果被理解为“从样机到可商用产品的最短工程周期”，则与产业规律大致吻合。

光源之外，还有整台机器的系统工程

即便光源功率在未来几年内逐步提升到可用级别，EUV光刻机仍然不是“有光源就有一切”。

一台商用EUV设备包含数十万个零部件，精密光学系统、双工件台、真空系统、精密控制模块，每一个都是独立的工程体系。

光源是其中最难啃的子系统之一，但整机的系统工程能力、供应链的完整度、量产的工艺成熟度，需要同步推进。

光源样机的价值，在于它证明了最难的环节之一是可以被触碰的；但它不证明其余环节已经就位。

在DUV一侧，国产设备的进展同样需要放在审慎的框架中看待，28nm浸没式DUV光刻机的相关研发和验证工作持续多年。

但截至目前，该系列设备进入商业化晶圆厂量产交付的说法并未得到可靠信源的支撑，有行业媒体明确指出相关“批量交付”消息存在事实错误，设备仍处于测试验证阶段。

成熟制程设备的自主化是一条正在推进的线，但它同样是一条需要时间来完成的线，不宜用尚未被证实的数据来填充。

回到朗道燧岩这家公司本身：成立于2024年，创始人团队来自清华大学气体放电等离子体实验室，2025年至2026年先后完成天使轮、天使+轮和A轮融资，投资方包括中芯聚源等产业资本。

资本和产业力量向EUV光源这一环节汇聚，本身是一个值得关注的信号，但它反映的是“有人愿意在长周期上投入”，而不是“长周期已经被缩短”。

15瓦的样机，是一步真实的进展，它说明EUV光源这条路上，国内已经有主体走到了公开验证的阶段。

但它同时也说明，前面的路仍然很长：功率要一瓦一瓦往上推，连续运行时间要从100小时向数千小时延伸，上游每一个子系统都要经得起产线级别的可靠性检验。

对这件事，既不需要贬低，也不需要拔高，把样机当作样机来看待，把3到5年当作工程周期来尊重，才是对这条路上真正做事的人最合适的回应。