北京
分享至
国家知识产权局信息显示，三星显示有限公司申请一项名为“沉积掩模、制造其的方法及通过使用其制造的电子装置”的专利，公开号CN122918499A，申请日期为2026年3月。
专利摘要显示，公开一种沉积掩模、制造沉积掩模的方法及通过使用其制造的电子装置。一种沉积掩模可包括：掩模基板，具有单元开口；隔膜，布置在掩模基板的前表面上，由单元开口部分地暴露，并且具有穿透（例如，延伸穿过）由单元开口暴露的部分的像素开口；以及后反射膜，布置在掩模基板的后表面、单元开口的内侧表面和由单元开口暴露的隔膜的部分上。
声明：市场有风险，投资需谨慎。本文为AI基于第三方数据生成，仅供参考，不构成个人投资建议。
本文源自：市场资讯
作者：情报员
特别声明：以上内容(如有图片或视频亦包括在内)为自媒体平台“网易号”用户上传并发布，本平台仅提供信息存储服务。
Notice: The content above (including the pictures and videos if any) is uploaded and posted by a user of NetEase Hao, which is a social media platform and only provides information storage services.
