荷兰公司要是看到这条消息,估计肺都要气炸了!10月12日,第二十六届中国国际工业博览会上,中国一家小型科创企业亮出国产EUV光源样机,国产化率达到90%,而这个机子正是高端光刻机的心脏。
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小编特意去翻了下这家公司什么来头。朗道燧岩,2024年才成立,名字听着像修仙小说里的门派,实际是从清华实验室走出来的一帮人。创始人王豪博士带着团队闷头搞了两年,直接把样机搬到了工博会展台上。现场那台机器看着不算起眼,但懂行的人路过都得愣一下。
说白了EUV光源就是拿激光去轰锡液滴,轰出极紫外光,再拿去刻芯片。这玩意难在哪?你得让激光和锡滴在每秒几万次的频率下精准对撞,位置偏一丁点都出不了光。朗道这台机器等离子体尺寸做到了60微米,稳定性控制在3%,小编查了下这个精度已经能用了。
但说句实话,别急着沸腾。现场工作人员自己也讲了,距离量产还得三到五年。现在这台机器EUV能量输出是15瓦,而ASML商用机器要求的是几百瓦,中间隔着几十倍的差距。15瓦能干嘛?做做曝光测试可以,真要拿去造7纳米芯片,还差得远。
有意思的是这家公司的融资节奏。天使轮、天使+、A轮,中芯聚源都进去了。产业资本比普通人精,他们敢砸钱说明技术路线至少被认可了。上海集成电路设计产业园也让他们入驻了,这背后什么意思,懂的人都懂。
小编想起2018年中芯国际付了1.2亿美元订金买ASML的EUV,到现在机器影子都没见着。那时候人家放话说给你图纸你都造不出来。六年过去,图纸咱们自己画出来了。
这台样机最让小编触动的地方不是90%国产化率,而是它来自一家成立才两年的小公司。不是中科院,不是国企,就是一个清华实验室出来的团队。这种事情放在五年前根本不敢想,那时候大家默认光刻机是国家队的事,民企碰都不敢碰。
当然你可以说15瓦跟250瓦没法比。确实没法比。但ASML第一台EUV样机功率也高不到哪去,东西从无到有这一步迈出去了,剩下的就是时间和钱的事。荷兰人真正该慌的不是现在这台机器,是这家公司背后那种“我就是要搞”的劲头。
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