北京
国家知识产权局信息显示，沈阳芯源微电子设备股份有限公司申请一项名为“一种隔膜式化学品供液系统及涂胶显影设备”的专利，公开号CN122919731A，申请日期为2026年7月。
专利摘要显示，本申请涉及供液装置领域，具体为一种隔膜式化学品供液系统及涂胶显影设备，隔膜式化学品供液系统包括：包括至少一个隔膜式供液泵，其内腔通过隔膜分为压缩腔和储液腔，且分别设置有与压缩腔流体相通的驱动接头以及与储液腔流体相通的补液接头、排液接头和供液接头；补液组件、排液组件、供液组件分别与补液接头、排液接头、供液接头连接；驱动组件与驱动接头连接以向压缩腔内输送或抽出气体，为隔膜式供液泵提供动力源；通过对压缩腔抽真空，使隔膜形变以扩大储液腔容积，实现负压平稳补液，避免传统正压注入所产生的液体飞溅与气泡混入；再通过对压缩腔输送正压气体，推动隔膜平稳挤压储液腔进行供液，保障了液体输出的稳定与精准。
天眼查资料显示，沈阳芯源微电子设备股份有限公司，成立于2002年，位于沈阳市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本20162.7296万人民币。通过天眼查大数据分析，沈阳芯源微电子设备股份有限公司共对外投资了8家企业，参与招投标项目385次，财产线索方面有商标信息34条，专利信息720条，此外企业还拥有行政许可81个。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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