北京
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国家知识产权局信息显示，亚洲光学股份有限公司申请一项名为“立体成像系统”的专利，公开号CN122923272A，申请日期为2026年3月。
专利摘要显示，一种立体成像系统，包括复数个反射面，其中：第一反射面朝向第二反射面；第一入射区设置于第一反射面与第二反射面之间；来自物侧的第一光线先通过第一入射区再入射第一反射面，经第一反射面反射再入射第二反射面，再经第二反射面反射由第一出射区射出；第三反射面朝向第四反射面；第二入射区设置于第三反射面与第四反射面之间；以及来自物侧的第二光线先通过第二入射区再入射第四反射面，经第四反射面反射再入射第三反射面，再经第三反射面反射由第二出射区射出。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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