国家知识产权局信息显示,重庆达方电子有限公司、达方电子股份有限公司申请一项名为“键帽升降机构及长矩形按键结构”的专利,公开号CN122930751A,申请日期为2025年4月。
专利摘要显示,本发明关于一种键帽升降机构及长矩形按键结构,键盘升降机构用于支撑长矩形键帽。该长矩形键帽具有长边方向及短边方向。该键帽升降机构包含两个支架,分别与该长矩形键帽连接且绕着平行于该长边方向的枢转轴相互枢接。其中一个支架包含两个外滑轴、位于该两个外滑轴之间的内滑轴、及两个外底轴,此支架经由该两个外滑轴及该内滑轴与该长矩形键帽可滑动且可转动地连接。于该长边方向上,其中一个外底轴较靠近其中一个外滑轴,另一个外底轴较靠近另一个外滑轴及该内滑轴且位于此两者之间。又,于该长边方向上,前者外底轴与外滑轴的间距小于后者外底轴与外滑轴的间距。本发明可增强支架与键帽的连接稳定度及两者间的连动效果。
声明:市场有风险,投资需谨慎。本文为AI基于第三方数据生成,仅供参考,不构成个人投资建议。
本文源自:市场资讯
作者:情报员
特别声明:以上内容(如有图片或视频亦包括在内)为自媒体平台“网易号”用户上传并发布,本平台仅提供信息存储服务。
Notice: The content above (including the pictures and videos if any) is uploaded and posted by a user of NetEase Hao, which is a social media platform and only provides information storage services.