北京
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国家知识产权局信息显示，ASM IP私人控股有限公司申请一项名为“用于减少寄生等离子体的装置和具有其的衬底处理设备”的专利，公开号CN122930798A，申请日期为2026年4月。
专利摘要显示，在本公开的一个实施例中，一种用于减少寄生等离子体的装置包括：气体歧管；气体通道；以及绝缘体，其位于气体歧管和气体通道之间，以将气体通道与气体歧管电隔离，其中气体歧管是金属的并且接地以减少气体歧管内的寄生等离子体。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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