北京
国家知识产权局信息显示，武汉华星光电半导体显示技术有限公司申请一项名为“显示模组及显示装置”的专利，公开号CN122929891A，申请日期为2026年8月。
专利摘要显示，本申请公开了一种显示模组及显示装置，属于显示技术领域，其目的是至少改善保护层发生下塌而产生印痕的问题。该显示模组包括柔性屏、盖板、缓冲散热层以及透气结构。所述柔性屏具有第一通孔；所述盖板位于所述柔性屏的一侧且覆盖所述第一通孔；所述缓冲散热层位于所述柔性屏背离所述盖板的一侧，所述缓冲散热层具有与所述第一通孔连通的第二通孔、以及透气通道，所述第二通孔的延伸方向与所述第一通孔的延伸方向相同，所述透气通道的一端延伸至所述第二通孔，另一端延伸至外界；所述透气结构设置于至少部分所述透气通道中。
天眼查资料显示，武汉华星光电半导体显示技术有限公司，成立于2016年，位于武汉市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本2100000万人民币。通过天眼查大数据分析，武汉华星光电半导体显示技术有限公司参与招投标项目531次，专利信息7116条，此外企业还拥有行政许可409个。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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