国产化率90%！首台EUV光源样机亮相，中芯刚给它投下A轮

10月12-16日，来自上观新闻的一则消息，正在上海国家会展中心举行的第二十六届中国国际工业博览会上，创新科技馆，一台极紫外（EUV）光源系统样机亮相。

现场工作人员介绍，这台光源系统国产化率达90%，绝大多数核心零部件为自主研发，技术路线与国际领先厂商一致，可用于芯片曝光测试。

了解半导体行业的人都知道，极紫外（EUV）光刻光源技术的重要性。

EUV光源被称为高端光刻机的“心脏”，是7nm及以下先进制程芯片制造的三大核心零部件之一，长期被海外垄断和禁运，是制约国产高端芯片自主可控的关键环节。

报道称，这是目前公开展示中进度最靠前的国产EUV光源样机。不过，样机亮相不等于立刻量产，且“国产化”不等于“性能领先”。

EUV光源的工程难点在于，所有子系统必须在极端条件下长时间协同工作。从“能做”到“能用”，中间还有大量可靠性、稳定性、寿命的验证工作。

现场工作人员也明确表示，该光源系统距离量产仍需3至5年。

中芯聚源投下A轮

带来这台样机的是一家成立于2024年8月的上海公司——朗道燧岩。

值得一提的是，就在今年7月，朗道燧岩刚刚完成A轮融资，包括沃衍资本、中芯聚源（中芯国际旗下投资平台）。

中芯聚源的入局是一个值得关注的信号。中芯国际是中国大陆最大的晶圆代工厂，也是EUV最直接的潜在用户。中芯聚源作为中芯国际旗下的产业投资平台，其投资逻辑指向产业链协同，EUV光源的国产化，直接关系到中芯国际先进制程产能的自主可控。

沃衍资本则是深耕新材料和高端装备领域的专业投资机构，在半导体设备材料赛道有系统性布局。两家机构的组合，覆盖了产业协同和财务回报两个维度。

能让中芯聚源、沃衍资本协同下场，并在如此短的时间内造出一台样机，朗道燧岩背后背景也引起了市场注意。

清华电机系等离子体实验室走出的创业团队

深挖这家公司我们发现，它创立时间虽然不长，但背后技术来源却是有着深厚技术积累的——清华电机系等离子体实验室。

创始人王豪，也是清华大学电机系博士。本科毕业于重庆大学，后考入清华电机系硕博连读，专攻冷门气体放电等离子，曾回重庆大学有过任教经历。

在电机系等离子体实验室，王豪博士研究了多年等离子体，建立了自己的多孔放电介质理论。他发现了一身所学的最佳应用：LPP-EUV光刻光源。

EUV光源最难啃的地方在于，它要用高功率激光去轰击锡微滴，激发出13.5纳米波长的极紫外光。

于是王豪做了一个疯狂的决定，倾尽家资，购买设备，进行实验。当13.5nm的极紫外光在实验室真空腔体中被激发时，他看到了可行性，于是开始寻找创业伙伴。

2024年8月，正式注册成立公司（一开始在南京注册创立，名为朗道科技南京）。

EUV光刻涉及诸多学科，前沿交叉，错综复杂，为了在中国实现EUV光刻，公司也需要成为"全能物理学家"，这也是公司的来源朗道，彪炳物理学史册的"最后一位全能物理学家"。

初期公司运行非常艰难，王豪凭借清华校友的名头，赴清华、北大、复旦宣讲，最终招揽到十几位来自清华、北大、南大、南加州大学等名校的精英。

有了人才，更棘手的事情却来了——资金问题，实现EUV光刻需要庞大的资金，彼时公司前期资金消耗殆尽，必须寻求融资。

但对于这样一家年轻的公司和团队，要挑战EUV光刻这样的顶尖难题，市场信任度并不高。团队绞尽脑汁，奇计百出，但进展寥寥。

除了需要融资外，王豪也深知，未来挑战在“供应链建设”与“认知鸿沟消除”——要将EUV宏大叙事拆解为具体零部件需求，利用产业链合力攻坚。

公司转折点，落地上海张江

转折点在2025年4月，朗道科技参加张江高科895创业营路演，最终夺魁。冠军奖励不仅是近500平方米免费研发空间，更带来数千万元天使轮融资，由此公司迎来首家外部投资者——张江高科旗下天使基金张江燧玥。

同年9月公司更名为朗道燧岩（上海）科技有限公司，正式迁址至上海张江。

作为“中国硅谷”，张江的半导体产业已经形成覆盖芯片设计、晶圆制造、封装测试、设备材料、EDA/IP的全产业链闭环生态，是国内集成电路产业集中度最高、链条最完整的区域之一。

朗道燧岩迁入张江，因此也直接与国内光刻机产业链的集聚区形成地理协同，此后公司也迎来了快速发展阶段。

EUV这样的顶尖技术在半导体应用并非一朝一夕就能成，作为商业公司，要想活下去眼下的商业化也是关键。

三大核心业务板块：燧岩、辉光、天算

为此朗道燧岩布局了三大核心业务板块：燧岩做EUV光源，辉光做大功率CO₂激光器；天算做等离子体仿真软件。

比如，朗道科技自主研发流体等离子体仿真软件，目前已成功嵌入半导体、航空航天等行业的工业场景。

做EUV光源燧岩系列，其高功率极紫外光源系统FlintMicro-LPP系列已完成原理论证，低功率FlintNano-LPP系列则已进入产品化阶段。

据朗道燧岩官网的技术参数显示，其低功率EUV光源系统FlintNano LPP-OXXO的驱动激光功率为1000W，激光频率1至20kHz，转换效率大于2%，亮度达100W/mm²sr，EUV能量大于15W，持续工作时间超过100小时。该系统等离子体尺寸为60μm，等离子体稳定性为3% RMS，能量稳定性为5%。

对于朗道燧岩等公司来说，EUV光源系统当前主要挑战还在于提升输出功率和长期运行稳定性。

商用EUV光刻系统通常要求光源功率达到数百瓦级别，并能在长时间运行中保持高度可靠，而目前展出的样机更多验证了技术路线可行性，距离工业级应用仍有明显差距。

EUV光源功率差距仍较大

换句话说，这次突破的价值在于“从0到1”的工程验证，它证明国产团队有能力把EUV光源从理论设计推向样机测试，也为后续提升功率、稳定性和产业链协同打下了基础。

从清华气体放电等离子体实验室到工博会展台，从原理验证到90%国产化率的样机，王豪团队用了数年时间，走完了EUV光源从学术研究到工程样机的第一阶段。

对于离子体物理、高功率激光、精密光学或真空工程方向的从业者来说，这里提供的是国内极少数能够直接参与EUV光源工程化的平台，技术挑战的真实性和稀缺性毋庸置疑。

但公司仍处于从样机走向量产的早期阶段，ASML的EUV光源从实验室原理验证到量产交付，也经历了超过二十年的持续投入，而中国团队面临的时间压力更大，先进制程的封锁在收紧。

朗道燧岩选择的LPP路线，是国际主流路线中工程化路径最清晰的。但这也意味着，团队不仅需要正面解决ASML等已经解决过的所有工程难题，同时还要在供应链自主可控的约束下完成。

当一台90%的国产化率的国产EUV光源样机在工博会上亮起，背靠的是一整套自主供应链，这条国产高端光刻机“心脏”的自主突破之路，到底还要多久，还需时间去解答。