北京
国家知识产权局信息显示，上海华力集成电路制造有限公司申请一项名为“一种双重曝光方法”的专利，公开号CN122923370A，申请日期为2026年7月。
专利摘要显示，本发明提供了一种利用固化工艺的双重曝光方法，涉及半导体制造技术领域。本方法包括提供衬底；在所述衬底上形成第一光刻图案；在所述第一光刻图案上覆盖固化剂；使用阶梯升温的方式加热所述第一光刻图案及所述固化剂，形成含有硫醚键的复合膜，用于保护所述第一光刻图案；去除多余的所述固化剂；在所述衬底上形成第二光刻图案，以所述第一光刻图案和所述第二光刻图案为掩膜对所述衬底进行刻蚀或离子注入。通过引入固化冻结工艺，在第一次光刻后即对图案进行化学交联和表面保护，大幅减少了工艺步骤和硬掩模需求。
天眼查资料显示，上海华力集成电路制造有限公司，成立于2016年，位于上海市，是一家以从事软件和信息技术服务业为主的企业。企业注册资本2960000万人民币。通过天眼查大数据分析，上海华力集成电路制造有限公司参与招投标项目2115次，专利信息2965条，此外企业还拥有行政许可552个。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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