北京
国家知识产权局信息显示，浙江大华技术股份有限公司申请一项名为“基于拍摄环境的摄像设备控制方法、设备及可读存储介质”的专利，公开号CN122934059A，申请日期为2026年6月。
专利摘要显示，本申请公开了基于拍摄环境的摄像设备控制方法、设备及可读存储介质，该方法包括：从光距传感器中获取当前拍摄环境下的混合光强度以及第二红外光强度，混合光强度包括可见光和红外光混合的总光强度和第一红外光强度；根据混合光强度确定摄像设备的目标拍摄模式，响应于目标拍摄模式与摄像设备的当前拍摄模式不同，切换当前拍摄模式为目标拍摄模式；和/或，根据第二红外光强度确定镜头雨刷的目标控制模式，控制镜头雨刷执行目标控制模式，镜头雨刷设置于摄像设备上。由此解决了传统分离设计所带来的高成本和高复杂度。
天眼查资料显示，浙江大华技术股份有限公司，成立于2001年，位于杭州市，是一家以从事软件和信息技术服务业为主的企业。企业注册资本326926.2074万人民币。通过天眼查大数据分析，浙江大华技术股份有限公司共对外投资了71家企业，参与招投标项目10444次，财产线索方面有商标信息324条，专利信息11473条，此外企业还拥有行政许可408个。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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