北京
国家知识产权局信息显示，江苏神州半导体科技股份有限公司取得一项名为“一种远程等离子体源刻蚀装置及其刻蚀机构”的专利，授权公告号CN224851744U，申请日期为2025年9月。
专利摘要显示，本实用新型属于刻蚀技术领域，具体涉及一种远程等离子体源刻蚀装置及其刻蚀机构。其包括刻蚀腔体，刻蚀腔体上开设有进气口和出气口；均气板罩设于进气口上；驱动装置的输出端上设置有位于刻蚀腔体中的驱动盘；若干导柱周向间隔设置于驱动盘上；转盘与均气板相对间隔设置，转盘上用于放置工件，转盘上开设有用于匹配嵌套在导柱上的导孔；驱动装置用于通过导柱带动转盘旋转，导柱用于带动转盘升降。本实用新型用于解决刻蚀一致性不好的问题。通过分气板和旋转转盘的协同调节，优化气体分布的均匀性，从而提升刻蚀效果的一致性，而且转盘的高度可受导致的调节变化，使得控制转盘与均气板的间距，满足刻蚀工艺需求。
天眼查资料显示，江苏神州半导体科技股份有限公司，成立于2016年，位于扬州市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本6600万人民币。通过天眼查大数据分析，江苏神州半导体科技股份有限公司共对外投资了4家企业，参与招投标项目35次，财产线索方面有商标信息32条，专利信息246条，此外企业还拥有行政许可26个。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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