北京
IT时代网10月14日消息，第二十六届中国国际工业博览会正在国家会展中心（上海）举行，朗道燧岩在会上首次公开展示一台极紫外（EUV）光源系统样机。这是目前公开展示中进度最靠前的国产EUV光源样机，被称为高端光刻机的“心脏”。现场工作人员介绍，该光源系统国产化率达到90%，绝大多数核心零部件为自主研发，技术路线与国际领先厂商一致，可用于芯片曝光测试。
极紫外光源是7nm及以下先进制程芯片制造的三大核心零部件之一，长期受海外技术垄断与禁运限制，是制约高端芯片自主可控的关键环节。据介绍，该光源系统距离量产仍需3至5年时间。
朗道燧岩官网已列出多款EUV产品。其中低功率EUV光源系统FlintNano LPP-OXXO已处于产品化阶段，驱动激光功率为1000W，激光频率1至20kHz，转换效率大于2%，EUV能量大于15W，持续工作时间超过100小时；高功率极紫外光源系统FlintMicro-LPP系列已完成原理论证。
公开资料显示，朗道燧岩成立于2024年，以清华大学气体放电等离子体实验室的研发成果为基础，聚焦LPP-EUV光刻光源技术的研发与产业化。
注：本文综合自IT之家等，文中包含AI辅助创作的内容。
编辑：林一舟
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