全球能把混合键合做到量产的厂商,一只手数得过来。能量化成具体间距数字的,是三家排在一起会让人觉得不太搭的组合:华为、台积电、英特尔——量产间距分别是1.5微米、6微米、9微米。
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先把这个参数说清楚。混合键合做的事,是让两颗芯片不用焊球、直接把表面贴到一起:铜焊盘对准、加压加热,让铜原子互相扩散连成一体。间距就是这些铜连接点的间隔,间距越小,同样面积里能塞进的通道越多,信号走得越短。
华为在10月13日的麒麟芯片技术交流会上披露,麒麟9050 Pro的混合键合间距已经做到1.5微米,计划2027年进一步缩到1微米。
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技术交流会现场展示麒麟芯片演进历程
能量产的只有三家,华为的间距最小
把三家的牌摊开看:
- 华为:麒麟9050 Pro量产间距1.5微米,2027年目标1微米,靠的是首次量产的逻辑折叠技术
- 台积电:SoIC在2025年做到6微米,计划2029年缩到4.5微米
- 英特尔:Foveros Direct在2026年上半年随Clearwater Forest量产,间距9微米,互连密度超12000个每平方毫米,第二代目标2027-2028年做到3微米
有一点必须说在前头:华为2027年的1微米、台积电2029年的4.5微米、英特尔2027-2028年的3微米,都是厂商公开的技术路线目标,不是已经落地的成果。
但即便拆成"现状"和"目标"两栏来比,结论也一致——华为现在的1.5微米,已经比台积电、英特尔当下投产的水平小了一档;而它2027年想去的1微米,比台积电2029年才规划的4.5微米还小得多,比英特尔下一代才敢想的3微米也更激进。
还有一条同期的注脚:台积电2026年9月推迟了面向HBM内存集成的混合键合投入,转而选择5微米的微凸点方案,预计2028年下半年量产。这意味着在最需要堆叠密度的存储方向,台积电短期不打算继续压间距。
排队的人不少,但公开间距的没几个
存储阵营是另一条主战场。
三星动作最密。2026年9月,它把原本以研究项目推进的B1b晶圆对晶圆混合键合正式转正,接管首个亚10纳米DRAM节点D0a的代号。平泽园区在建的混合键合量产线配约50台设备,2026年底启动安装,大规模量产指向2029-2030年,同步评估导入HBM5。
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三星展出HBM4E高带宽存储芯片样品
另有韩媒报道称三星已向客户交付混合键合的HBM样品,但这一消息源自技术人员采访,未见公司公告确认。
SK海力士是存储阵营里把混合键合排得最靠前的。它计划2027年初在第十代V10 NAND(300+层)上启动大规模量产。不过在HBM方向,有报道称其混合键合开发遭遇困难,尚未开始相应样品生产。
日本铠侠是更早的商用户,2023年就已在218层第八代BiCS 3D NAND中用上混合键合(命名为CBA架构),但它没有公开对应的间距数字,所以无法直接和华为的参数并排比。
国内这边,通富微电在2026年半年报里明确布局混合键合,目标突破亚微米级无凸块互连;华天科技已开展混合键合封装技术研发,上半年重点推进2.5D平台量产;盛合晶微是国内唯一实现硅基2.5D大规模量产的企业,2.5D国内市占率约85%;长电科技65亿元定增投向先进封装扩产。
它们都还没走到公开混合键合量产间距的阶段。
这一微米背后,比的是哪条赛道
需要把两件事分开看。华为在逻辑芯片(逻辑叠逻辑)方向做混合键合,台积电SoIC同样面向逻辑芯片堆叠,这两者可比性最强——华为1.5微米对台积电6微米,领先是实打实的。
三星、SK海力士、铠侠则主要在DRAM和NAND的存储路线推进,它们的目标是先解决堆叠层数和散热,间距数字未必是首要指标。
真正决定这条赛道成色的,是良率和成本。行业普遍认为混合键合要商业化,良率得跨过60%的门槛,而HBM场景下的良率目前还徘徊在10%左右;混合键合设备在晶圆键合设备市场占比仅1%-2%,传统热压键合仍占90%-96%。
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间距缩得越小,对准精度、翘曲控制、颗粒洁净度的要求越苛刻,这也是台积电选择先在存储方向退守的现实理由。
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先进封装车间的芯片键合作业场景
从时间轴看,全行业混合键合的第一个大规模量产拐点,业内押在2027年初(SK海力士V10 NAND启动),AI芯片配套存储的主流应用则要到2029-2030年伴随HBM5世代。
华为若兑现2027年1微米、随下一代麒麟芯片量产,正好卡在窗口开启的最前端;而台积电的4.5微米、英特尔的3微米、三星的首个亚10纳米DRAM节点,都排在它后面两三年的时间坐标上。
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HBM5高带宽存储芯片概念效果图
这份量产名单现在还短得能一眼数完。华为手里的1.5微米是名单上最小的数字,下一个1微米如果真在2027年落地,它会成为逻辑芯片这条线上最新的一根刻度——而其他几家的目标节点,都还在它身后的时间轴上。
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