北京
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有投资者在互动平台向聚和材料提问：“董秘你好，韩国SKE空白掩模版在美国的相关专利，是否已经全部转移到公司名下？上海空白掩膜版生产基地建设进度是否符合预期？”
针对上述提问，聚和材料回应称：“尊敬的投资者,您好。韩国SKE空白掩模版在美国的相关专利，已全部转移至公司名下；上海空白掩膜版生产基地建设按期顺利进行。感谢您的关注！”
本文源自：市场资讯
作者：公告君
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