北京
国家知识产权局信息显示，浙江求是创芯半导体设备有限公司申请一项名为“反应腔室内壁涂层的生成方法及相关方法、装置”的专利，公开号CN122898865A，申请日期为2026年6月。
专利摘要显示，本申请公开反应腔室内壁涂层的生成方法及相关方法、装置，包括以下步骤：持续通入氧化气体和惰性气体至反应腔室，维持反应腔室内温度于第一预设温度；通入硅前驱体至反应腔室第一预设时长；停止通入硅前驱体第二预设时长后，以第一射频功率对反应腔室内进行第一射频放电，并持续第一射频放电至第三预设时长；第一射频功率大于PEALD工艺中的第二射频放电的第二射频功率，和/或，第三预设时长大于第二射频放电持续的第五预设时长；停止第一射频放电第四预设时长；循环上述步骤直至反应腔室的内壁涂层达到第一预设厚度。上述方案能够减小基底表面沉积薄膜层时颗粒问题的产生，增加可累计沉积的薄膜厚度，从而降低腔室清洗的频率，延长腔室寿命。
天眼查资料显示，浙江求是创芯半导体设备有限公司，成立于2021年，位于杭州市，是一家以从事专用设备制造业为主的企业。企业注册资本4320.9877万人民币。通过天眼查大数据分析，浙江求是创芯半导体设备有限公司参与招投标项目13次，财产线索方面有商标信息9条，专利信息107条，此外企业还拥有行政许可2个。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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