北京
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国家知识产权局信息显示，高光光学（深圳）有限公司取得一项名为“一种适用于大尺寸微晶的可调清洗工装”的专利，授权公告号CN224823683U，申请日期为2025年11月。
专利摘要显示，本申请涉及光学元件清洗技术领域，具体涉及一种适用于大尺寸微晶的可调清洗工装。所述可调清洗工装包括：若干支撑轴，用于固定并支撑目标微晶，所述目标微晶包括异形微晶；沥水支撑框，所述沥水支撑框的顶部为矩形框，所述矩形框的两条相对的框边上等间距设有多组用于安装支撑轴的安装孔，所述沥水支撑框用于固定支撑轴；紧固件，所述目标微晶通过所述紧固件与所述支撑轴固定连接。采用本申请提供的方案，可在不影响清洗效果的前提下，固定各类异形和非异形微晶。
天眼查资料显示，高光光学（深圳）有限公司，成立于2019年，位于深圳市，是一家以从事批发业为主的企业。企业注册资本100万人民币。通过天眼查大数据分析，高光光学（深圳）有限公司参与招投标项目1次，专利信息21条，此外企业还拥有行政许可6个。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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