北京
国家知识产权局信息显示，苏州思凯莱特光电科技有限公司申请一项名为“一种用于芯片级点光源的量子点聚合物膜及其制备方法”的专利，公开号CN122878701A，申请日期为2026年6月。
专利摘要显示，本发明公开了一种用于芯片级点光源的量子点聚合物膜及其制备方法，涉及量子点膜技术领域。本发明制备方法包括：（1）硼掺杂硅‑铝复合溶胶包覆量子点；（2）将苯乙烯、甲基丙烯酸甲酯、双(2‑甲基丙烯)乙氧基二硫、偶氮二异丁腈溶解在乙酸丁酯中，经反应、干燥，得改性丙烯酸树脂；（3）将改性丙烯酸树脂加热至熔融态，加入改性量子点、氮化硼纳米片、引发剂、γ‑氨丙基三乙氧基硅烷，保温搅拌，冷却，即得。本发明通过硼掺杂硅‑铝复合溶胶包覆量子点，并结合含硫改性丙烯酸树脂基体，显著提升了量子点的稳定性、折射率及阻隔性能，适用于高可靠性芯片级点光源。
天眼查资料显示，苏州思凯莱特光电科技有限公司，成立于2023年，位于苏州市，是一家以从事电气机械和器材制造业为主的企业。企业注册资本691.489382万人民币。通过天眼查大数据分析，苏州思凯莱特光电科技有限公司参与招投标项目1次，专利信息10条，此外企业还拥有行政许可1个。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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