北京
国家知识产权局信息显示，畅的新材料科技（上海）有限公司、畅的新材料科技（浙江）有限公司申请一项名为“长效紫外阻隔生物基膜及其制备方法”的专利，公开号CN122883299A，申请日期为2026年7月。
专利摘要显示，本申请涉及光学薄膜的技术领域，具体公开了一种长效紫外阻隔生物基膜及其制备方法，一种长效紫外阻隔生物基膜从上到下依次包括：上保护层，为生物基聚酯层；紫外反射层，为至少由第一生物基聚酯和第二树脂交替叠加形成的多层光学膜，用于在315‑400nm波段通过干涉反射紫外光；下保护层，为含有有机紫外吸收剂的生物基聚酯层；其中，所述紫外反射层在315‑400nm波段的平均反射率R≥90%；所述有机紫外吸收剂在300‑400nm波段的最大吸光度A≥；所述生物基膜中生物基碳含量占总碳含量的比例≥60%。本申请通过紫外层下保护层的协同作用，并结合生物基聚酯优异的气体阻隔性，实现了在315‑400nm波段高达99%以上的紫外阻隔率，并在加速老化后性能保持率极高。
天眼查资料显示，畅的新材料科技（上海）有限公司，成立于2017年，位于上海市，是一家以从事非金属矿物制品业为主的企业。企业注册资本987.9142万人民币。通过天眼查大数据分析，畅的新材料科技（上海）有限公司共对外投资了5家企业，参与招投标项目7次，财产线索方面有商标信息15条，专利信息72条，此外企业还拥有行政许可27个。
畅的新材料科技（浙江）有限公司，成立于2024年，位于宁波市，是一家以从事科技推广和应用服务业为主的企业。企业注册资本15000万人民币。通过天眼查大数据分析，畅的新材料科技（浙江）有限公司共对外投资了1家企业，参与招投标项目7次，专利信息11条，此外企业还拥有行政许可2个。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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