北京
国家知识产权局信息显示，上海华力集成电路制造有限公司申请一项名为“套刻标记的拼接方法”的专利，公开号CN122883415A，申请日期为2026年7月。
专利摘要显示，本发明提供一种套刻标记的拼接方法，首先，在掩模版的像素区边缘平行设置有线宽标记和中心标记，两者形状和关键尺寸均相同，且中心标记位于线宽标记外侧；其次，执行两次曝光工艺，将掩模版上的像素区转移至晶圆上形成第一像素区和第二像素区，使第一中心标记与第二中心标记重叠形成拼接区作为重复曝光区；然后，根据第一线宽标记的线宽、第二线宽标记的线宽及重复曝光区的线宽，并结合第一中心标记的中心点坐标、第二中心标记的中心点坐标，获取套刻标记的套刻精度。本发明提供的套刻标记的拼接方法，显著提高了套刻模型预值的准确性，降低了成本与周期，为尺寸图像传感器的高精度、高效率制造提供了可靠保障。
天眼查资料显示，上海华力集成电路制造有限公司，成立于2016年，位于上海市，是一家以从事软件和信息技术服务业为主的企业。企业注册资本2960000万人民币。通过天眼查大数据分析，上海华力集成电路制造有限公司参与招投标项目2114次，专利信息2959条，此外企业还拥有行政许可552个。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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