北京
来源：市场资讯
（来源：SIP集成电路）
今天，普雨科技（苏州）有限公司（以下简称“普雨科技”）举办首台设备出货分享会，庆祝此前普雨科技首台高精度工业级纳米压印光刻设备出货。园区相关部门及投融资机构代表、产业链合作伙伴、业内代表等嘉宾出席活动。
作为早期投资人，早在2024年8月，元禾控股就参与了普雨科技的天使轮投资。并且在落实生产场地、申报各级政策、对接产业链资源、推进人才招聘与后续融资等方面，多维度、全方位对普雨科技进行投后赋能，让团队无后顾之忧地搞科研、抓生产。
如今的首台设备出货，既是普雨科技从研发走向量产验证的关键里程碑，也是元禾控股和园区集成电路公司与普雨科技携手深耕产业的最好见证。
ImprioVerse
ImprioVerse是普雨科技针对纳米级结构的量产型压印设备，在保证成膜均匀性与图形精度的同时，有效延长了模板使用寿命。
产品具有以下技术亮点：①多尺寸兼容：兼容2、3、4寸晶圆，支持硅、磷化铟、砷化镓等多种衬底材料。②硬质模板整片压印技术：采用硬质模板整片压印方案，开发了精确的模板及晶圆形变控制系统，在保证成膜均匀性与图形精度的同时，有效延长了模板使用寿命。③智能化喷胶平台：压印胶采用喷涂方式，省去了传统工艺中的旋涂及烘胶环节，大幅缩短了工艺流程。喷胶图形及像素密度可编辑，为工艺提供更大的自由度，可实现均匀的残胶厚度并最大限度地降低缺陷率。④高精度运动控制：闭环控制的运动平台、压印平台及精密的套刻系统。
ImprioVerse可广泛应用于多个微纳制造领域，面向光芯片、MEMS芯片、先进封装及衍射光学器件等高端场景，具体涵盖衬底图形化、光波导阵列、衍射光学元件（DOE）、微透镜阵列等产品的研发和量产。
从市场前景看，纳米压印光刻技术正成为光芯片、先进封装、MEMS芯片、存储芯片等成本敏感赛道的主要替代方案。目前，国际半导体设备巨头已推动纳米压印技术实现商业化突破，相关设备已导入海力士、铠侠等全球存储巨头。普雨科技凭借ImprioVerse的差异化技术路线，有望在国产替代浪潮中抢占先机，为国内客户提供兼具性能与成本优势的成熟方案。
普雨科技将持续深耕纳米压印光刻技术研发，打磨核心装备，携手各界合作伙伴聚力突破产业瓶颈，助力国内微纳光学、半导体装备产业高质量发展，赋能半导体、AR/VR 光波导产业链创新升级。
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