北京
国家知识产权局信息显示，上海矽加半导体有限公司取得一项名为“抛光垫清洗装置”的专利，授权公告号CN224823576U，申请日期为2025年11月。
专利摘要显示，本申请实施例涉及工件抛光技术领域，公开了一种抛光垫清洗装置。抛光垫清洗装置包括基体及刷头组件。基体设置有安装孔。刷头组件包括摆臂，以及可转动地设置在摆臂上、用于刷洗抛光垫的刷头，摆臂连接有第一中心轴，第一中心轴穿过安装孔，并绕预设方向可转动地设置在基体上，第一中心轴与安装孔孔壁之间设置有第二中心轴，第二中心轴与安装孔孔壁的至少部分相对处设置成相互配合的阶梯状，并形成有处于密封状态的气体腔室，气体腔室与调压装置连接，以在调压装置的控制下带动第二中心轴及第一中心轴沿预设方向移动。本申请实施例提供的抛光垫清洗装置，能够避免抛光垫清洗装置的刷洗部分的运动精度受到影响。
天眼查资料显示，上海矽加半导体有限公司，成立于2025年，位于上海市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本1000万人民币。通过天眼查大数据分析，上海矽加半导体有限公司专利信息26条，此外企业还拥有行政许可5个。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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