北京
国家知识产权局信息显示，度亘核芯光电技术（苏州）股份有限公司、苏州度亘垂腔芯片技术有限公司申请一项名为“半导体激光器芯片及其制备方法”的专利，公开号CN122869084A，申请日期为2026年8月。
专利摘要显示，本发明提供了一种半导体激光器芯片及其制备方法，制备方法包括提供一InP衬底；在InP衬底上依次生长第一限制层、有源层和第二限制层；第一限制层为N型InP层，第二限制层为P型InP层，有源层为InGaAsP；在第二限制层的部分区域进行刻蚀，形成脊波导以及位于脊波导两侧的沟槽，沟槽在外延方向上未贯穿所述第二限制层；在两侧的沟槽内依次生长第一半导体层和第二半导体层，形成掩埋异质结；第一半导体层为P型InP层，第二半导体层为N型InP层；在脊波导和掩埋异质结的顶部生长第三限制层；在第三限制层上生长欧姆接触层。本发明提高了掩埋异质结的良好电流限制能力和光场限制能力，同时降低有源层的刻蚀损伤和自由载流子吸收损耗，提高器件的出光功率和可靠性。
天眼查资料显示，度亘核芯光电技术（苏州）股份有限公司，成立于2017年，位于苏州市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本39037.0798万人民币。通过天眼查大数据分析，度亘核芯光电技术（苏州）股份有限公司共对外投资了11家企业，参与招投标项目68次，财产线索方面有商标信息17条，专利信息409条，此外企业还拥有行政许可18个。
苏州度亘垂腔芯片技术有限公司，成立于2021年，位于苏州市，是一家以从事研究和试验发展为主的企业。企业注册资本1000万人民币。通过天眼查大数据分析，苏州度亘垂腔芯片技术有限公司专利信息12条，此外企业还拥有行政许可3个。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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