北京
国家知识产权局信息显示，北京芯微诺达科技有限公司申请一项名为“一种变压等离子体刻蚀设备及方法”的专利，公开号CN122868404A，申请日期为2026年8月。
专利摘要显示，本发明涉及等离子体加工技术领域，公开了一种变压等离子体刻蚀设备及方法，包括基座以及设在基座上的反应筒，反应筒底部设有真空抽气机构，顶部设有工艺气体供应机构，反应筒内部设有反应腔体，反应腔体内部下方设有工件台机构，反应腔体内侧设有内衬组件以及驱动内衬轴向往复升降的内衬调节机构，内衬组件电连接可编程调控电压源，反应腔体上方设有等离子体激发机构；该设备通过内衬调节机构带动筒状内衬本体沿升降导向柱平稳升降，配合上端伸缩波纹管和下端密封环环形滑槽的滑动密封结构，实现内衬在真空腔内的无接触密封升降，从而改变内衬侧壁对等离子体的轴向约束范围，结合可编程电压调控，形成双重调控机制，主动调控刻蚀环境。
天眼查资料显示，北京芯微诺达科技有限公司，成立于2017年，位于北京市，是一家以从事科技推广和应用服务业为主的企业。企业注册资本150万人民币。通过天眼查大数据分析，北京芯微诺达科技有限公司参与招投标项目41次，财产线索方面有商标信息2条，专利信息5条，此外企业还拥有行政许可4个。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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