北京
国家知识产权局信息显示，合肥维信诺科技有限公司申请一项名为“物理气相沉积平面靶设备及其制备方法”的专利，公开号CN122856111A，申请日期为2025年3月。
专利摘要显示，本申请属于物理气相沉积设备技术领域，提供了一种物理气相沉积平面靶设备及其制备方法，该物理气相沉积平面靶设备中的磁性结构固定于平面靶材背离待处理基板的一侧，磁性结构包括阵列排布的多个磁体；沿第一方向，第一行的每个磁体与第三行的每个磁体对称分布于第二行的每个磁体的两侧，第一行的每个磁体朝向第二行的每个磁体的极性与第二行的每个磁体朝向第一行的每个磁体的极性相反，第二行的每个磁体朝向第三行的每个磁体的极性与第三行的每个磁体朝向第二行的每个磁体的极性相反，第一行的每个磁体的磁性和第三行的每个磁体的磁性大于第二行的每个磁体的磁性。本申请通过特定的磁性结构布局，能够提高靶材利用率，实现薄膜沉积的均匀性。
天眼查资料显示，合肥维信诺科技有限公司，成立于2018年，位于合肥市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本2200000万人民币。通过天眼查大数据分析，合肥维信诺科技有限公司共对外投资了1家企业，参与招投标项目999次，专利信息4714条，此外企业还拥有行政许可43个。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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