北京
国家知识产权局信息显示，合肥维信诺科技有限公司申请一项名为“气相沉积设备及方法、反应腔室清洁装置”的专利，公开号CN122856151A，申请日期为2025年3月。
专利摘要显示，本申请提供一种气相沉积设备及方法、反应腔室清洁装置，气相沉积设备包括：第一进气通道，第一进气通道设置于反应腔室的中心区域，第一进气通道与反应腔室连通；多个第二进气通道，第二进气通道设置于反应腔室的角落区域，第二进气通道与反应腔室连通；多个分支管路，分支管路与第二进气通道一一对应；分支管路设置于第一进气通道与对应的第二进气通道之间，第二进气通道通过分支管路与第一进气通道连通。本申请提供的气相沉积设备中，清洁气体可以直接快速到达角落区域，提高了角落区域的清洁效率，形成均匀气流场，使清洁气体覆盖全腔室，可以解决角落残留沉积物的问题，提升清洁效率，减少无机膜脱落风险。
天眼查资料显示，合肥维信诺科技有限公司，成立于2018年，位于合肥市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本2200000万人民币。通过天眼查大数据分析，合肥维信诺科技有限公司共对外投资了1家企业，参与招投标项目999次，专利信息4714条，此外企业还拥有行政许可43个。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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