北京
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国家知识产权局信息显示，亚特兰特3D有限公司申请一项名为“传感器装置和通过直接原子层处理制造传感器装置的方法”的专利，公开号CN122873343A，申请日期为2025年1月。
专利摘要显示，本公开涉及一种传感器装置和用于制造传感器装置的方法，该传感器装置包含基板和用于与环境相互作用的感测组件的阵列，其中每个感测组件包括该基板上的材料薄膜沉积物，以便提供具有相互不同的敏感度性质的所述感测组件。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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