国家知识产权局信息显示,宸微设备科技(苏州)有限公司申请一项名为“匀气盘及化学气相沉积喷头”的专利,公开号CN122856145A,申请日期为2026年8月。
专利摘要显示,本申请提供了一种匀气盘及化学气相沉积喷头,通过在匀气盘的出气面设置阻气坝结构,并利用阻气坝结构对中心区域与边缘区域之间的气体流动进行阻碍,使中心区域的气体不易向边缘区域扩散,从而改变匀气盘出气面一侧的气体流量分布,使更多反应气体能够向与中心区域对应的下游区域输送。由此,可以增加晶圆中心区域的反应气体供给量和反应物浓度,提高晶圆中心区域的沉积速率,对CVD钌薄膜沉积过程中晶圆中心区域膜厚偏薄的情况进行补偿,在减少对晶圆其他区域影响的情况下改善晶圆整体的膜厚均匀性,并有利于降低晶圆中心区域因膜厚偏薄产生的方块电阻偏高问题。
天眼查资料显示,宸微设备科技(苏州)有限公司,成立于2022年,位于苏州市,是一家以从事专用设备制造业为主的企业。企业注册资本3157.8947万人民币。通过天眼查大数据分析,宸微设备科技(苏州)有限公司共对外投资了2家企业,参与招投标项目3次,财产线索方面有商标信息39条,专利信息129条,此外企业还拥有行政许可5个。
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本文源自:市场资讯
作者:情报员
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