国家知识产权局信息显示,铠侠股份有限公司申请一项名为“半导体装置及半导体存储装置”的专利,公开号CN122871701A,申请日期为2022年8月。
专利摘要显示,实施方式提供能降低导通电阻的半导体装置及半导体存储装置。实施方式的半导体装置具备:第1电极;第2电极;氧化物半导体层,其设置在所述第1电极与所述第2电极之间;栅电极,其将所述氧化物半导体层的至少一部分包围;以及栅极绝缘层,其至少一部分设置在所述栅电极与所述氧化物半导体层之间,在与从所述第1电极朝向所述第2电极的第1方向垂直的截面中,所述第1电极和所述第2电极中的至少任一方将所述氧化物半导体层包围,或者所述氧化物半导体层将所述第1电极和所述第2电极中的至少任一方包围。
声明:市场有风险,投资需谨慎。本文为AI基于第三方数据生成,仅供参考,不构成个人投资建议。
本文源自:市场资讯
作者:情报员
特别声明:以上内容(如有图片或视频亦包括在内)为自媒体平台“网易号”用户上传并发布,本平台仅提供信息存储服务。
Notice: The content above (including the pictures and videos if any) is uploaded and posted by a user of NetEase Hao, which is a social media platform and only provides information storage services.