北京
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国家知识产权局信息显示，ASM IP私人控股有限公司申请一项名为“在金属表面上使用选择性沉积形成结构的方法”的专利，公开号CN122856138A，申请日期为2026年3月。
专利摘要显示，公开了用于在金属表面上形成具有选择性沉积的结构的方法。示例性方法包括在反应室中提供衬底，可选地在金属表面上执行预处理过程，执行生长促进处理，以及在金属表面上或覆盖金属表面沉积膜。示例性生长促进处理包括脉冲含硼前体和执行吹扫。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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