北京
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国家知识产权局信息显示，盛美半导体设备（上海）股份有限公司、盛美半导体设备韩国有限公司、清芯科技有限公司申请一项名为“基板清洗装置、基板清洗方法及涂覆显影设备”的专利，公开号CN122850508A，申请日期为2025年3月。
专利摘要显示，本申请公开了一种基板清洗装置、基板清洗方法及涂覆显影设备。基板清洗装置包括：承载盘；若干第一夹持件；若干第二夹持件；第一驱动件，用于驱动第二夹持件沿承载盘的径向移动；第二驱动件，用于驱动第二夹持件旋转；清洗刷，用于刷洗基板的下表面；第三驱动件，与承载盘传动连接；其中，在刷洗状态下，第一驱动件用于驱动第二夹持件沿承载盘的径向向内移动，以夹持基板的边缘，第二驱动件用于驱动第二夹持件带动基板自转，清洗刷刷洗基板的下表面；在甩干状态下，第三驱动件用于驱动承载盘旋转，第一夹持件用于夹持并带动基板旋转，以甩干基板上的清洗液。本申请实现了提升基板的下表面的清洗效果，增加基板的清洗效率的技术效果。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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