北京
国家知识产权局信息显示，深圳晶源信息技术有限公司申请一项名为“集成电路版图的曲线掩模图形处理方法及相关产品”的专利，公开号CN122839965A，申请日期为2026年7月。
专利摘要显示，本发明提供了一种集成电路版图的曲线掩模图形处理方法及相关产品。处理方法包括确定跨越目标分块的边界框的闭合曲线；确定闭合曲线的处于目标分块内的目标曲线段；获取闭合曲线的控制点，从中确定目标曲线段的块内控制点；按照预设的闭合曲线延伸方向确定块内控制点中的最上游控制点和最下游控制点，并确定闭合曲线的与最上游控制点相邻的前序控制点以及与最下游控制点相邻的后序控制点；记录目标分块的边界框，以及目标曲线段的块内控制点、前序控制点和后序控制点的信息。本方法破除了阻碍将闭合曲线的参数化方程存储方案应用于掩模版图的障碍，通过使用参数化方程存储曲线掩模，避免了曲线掩模精度丢失，且大幅降低了曲线掩模的存储数据量。
天眼查资料显示，深圳晶源信息技术有限公司，成立于2016年，位于深圳市，是一家以从事软件和信息技术服务业为主的企业。企业注册资本5000万人民币。通过天眼查大数据分析，深圳晶源信息技术有限公司参与招投标项目4次，财产线索方面有商标信息3条，专利信息205条，此外企业还拥有行政许可8个。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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