天津
令中方不由得大吃一惊！
2026年9月28日，塔斯社发布了一条消息。俄第一副总理丹尼斯·曼图罗夫在“微电子”论坛全体会议上当众宣布，俄罗斯和白俄罗斯已经联手研制出了130纳米光刻机样机。他还说，配套的国产准分子激光器也搞定了，这让俄罗斯挤进了掌握这项技术的少数国家行列。
曼图罗夫还透露了几个信息。电子束光刻技术正在推进，这东西用来造光掩模。泽列诺格勒正在盖一个科学技术中心，专门生产光掩模。项目分步走，最终目标是掌握28纳米制程的集成电路生产工艺。
他还提到，过去三年俄罗斯掌握了大约60种关键材料产品的生产，另有差不多数量的产品计划2029年上市。
俄罗斯微电子长期落后，这回突然拿出130纳米光刻机样机，确实让人意外。俄罗斯微电子产业的底子一直不厚。苏联解体后，这条产业链基本散了架。投入不足，设备老化，人才流失。工厂的主力制程长期停在65纳米，比美国落后了大约十五年。
2022年俄乌冲突爆发，西方制裁铺天盖地。美国Synopsys和Cadence两家公司断了CAD软件供应，俄罗斯芯片设计企业一下子没了工具。台积电也停了代工服务。俄罗斯的芯片供应一度非常紧张。
俄罗斯科学院公布了光刻机路线图：2026年推出65到40纳米光刻机，2032年完成28纳米光刻机，2036年底前搞出10纳米以下的EUV光刻机。EUV那台打算用11.2纳米镭射光源，跟ASML的13.5纳米不一样，用氙气激光器替代金属锡滴。
130纳米制程在今天的芯片产业里属于成熟得不能再成熟的技术。中国上海微电子已经搞出了90纳米光刻机，28纳米浸没式光刻机也在验证中。中俄在这个领域不在一个量级上。
另一方面，俄罗斯的进步对中国有参考价值。俄罗斯在准分子激光器、固体激光器、电子束光刻这些细分方向上积累了一些东西，跟白俄罗斯合作的模式也值得看看。中俄在半导体材料、专用芯片设计、先进制造工艺研发与设备研制方面可以深化协作。
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