北京
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国家知识产权局信息显示，台达电子工业股份有限公司取得一项名为“扼流圈集成结构”的专利，授权公告号CN224816949U，申请日期为2025年10月。
专利摘要显示，本实用新型提供一种扼流圈集成结构，包含磁芯、绕设于磁芯上的至少二绕组、至少一磁性体及固定介质。至少一磁性体设置于至少二绕组之间，且位于至少二绕组相对磁芯的至少一外侧。固定介质用以将至少一磁性体固定于至少二绕组上。本实用新型的扼流圈集成结构有助于提升扼流圈效率及改善其电磁干扰特性。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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