AI芯片需求火爆,但造芯片的机器不会一夜之间跟上。ASML给出的时间表是:10到15年。
这家光刻机厂商明确表示,AI对芯片制造的影响不会立刻兑现,而是会在未来十到十五年间逐步展开。
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一项升级:更大的反射镜孔径
ASML计划中的一项升级,是在其极紫外光刻系统中采用更大的反射镜孔径。孔径变大,设备就能更精确地聚焦EUV光,从而支持更精细的图形化,以及未来更先进制程的制造需求。
换句话说,AI带来的算力饥渴,最终要落到这类硬件指标的缓慢爬坡上。设备端的每一次改进,都对应着制程往前挪动的一小步。
10到15年这个跨度,和外界对AI芯片产能的急切预期形成了明显落差。芯片制造的节奏,由光刻这类底层设备的迭代速度决定,而不是由需求端的热情决定。
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