北京
国家知识产权局信息显示，合肥维信诺科技有限公司申请一项名为“等离子体刻蚀设备、等离子体产生模块和阵列基板”的专利，公开号CN122843276A，申请日期为2025年3月。
专利摘要显示，本申请公开了一种等离子体刻蚀设备、等离子体产生模块和阵列基板，等离子体刻蚀设备用于制备显示面板的阵列基板，等离子体刻蚀设备包括制备腔室、感应电极和等离子体产生模块。感应电极位于制备腔室且至少部分感应电极将制备腔室分隔为生成腔室和刻蚀腔室，感应电极包括多个引导孔。等离子体产生模块被配置为向刻蚀腔室提供等离子气体，等离子体产生模块包括主产生模块和子产生模块。主产生模块以第一气体流速向生成腔室输送等离子气体，子产生模块以第二气体流速向刻蚀腔室输送等离子气体，第一气体流速大于第二气体流速。本申请实施例提升阵列基板各处发生反应的程度的均一性，提升了阵列基板的制作良率。
天眼查资料显示，合肥维信诺科技有限公司，成立于2018年，位于合肥市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本2200000万人民币。通过天眼查大数据分析，合肥维信诺科技有限公司共对外投资了1家企业，参与招投标项目999次，专利信息4699条，此外企业还拥有行政许可43个。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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