北京
国家知识产权局信息显示，合肥维信诺科技有限公司申请一项名为“具有气体供应系统的等离子体蚀刻装置和等离子体刻蚀方法”的专利，公开号CN122843260A，申请日期为2025年3月。
专利摘要显示，本申请公开了一种具有气体供应系统的等离子体蚀刻装置和等离子体刻蚀方法，等离子体蚀刻装置用于制备显示面板的阵列基板，具有气体供应系统的等离子体蚀刻装置包括：制备腔室，制备腔室的个数为两个以上，各制备腔室内均设置有承载台，承载台用于承载待刻蚀基材；气体供应系统，用于为两个以上的制备腔室供应刻蚀气体，气体供应系统包括两个以上的气体腔室，两个以上的气体腔室包括用于产生第一刻蚀气体的第一气体腔室和用于产生第二刻蚀气体的第二气体腔室，其中，第一气体腔室和第二气体腔室相对制备腔室可移动设置，以使第一气体腔室和第二气体腔室均能够与两个以上制备腔室中的至少两者连通，第一刻蚀气体和第二刻蚀气体均能够刻蚀两个以上制备腔室中至少两者内的待刻蚀基材。
天眼查资料显示，合肥维信诺科技有限公司，成立于2018年，位于合肥市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本2200000万人民币。通过天眼查大数据分析，合肥维信诺科技有限公司共对外投资了1家企业，参与招投标项目999次，专利信息4699条，此外企业还拥有行政许可43个。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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