北京
国家知识产权局信息显示，捷成微系统（惠州）股份有限公司申请一项名为“6代光电掩膜板制造的清洗装置”的专利，公开号CN122815760A，申请日期为2026年7月。
专利摘要显示，本发明涉及半导体光刻制造设备技术领域，尤其涉及一种用于G8.6代光电掩膜板制造的清洗装置。本发明包括掩膜板清洗主体组件、掩膜板夹持组件、下清洗组件以及上清理组件，所述掩膜板清洗主体组件包括清洗腔架，所述掩膜板清洗主体组件包括清洗腔架，所述掩膜板夹持组件包括两组转动安装在清洗腔架内壁上的转杆。本发明通过转杆的旋转调节、传输通道上电动伸缩杆与空心电动伸缩杆的协同滑动，并通过与辅助拖板组件的配合，使掩膜板从输入传送架到输出传送架的整个过程中无需人工搬运或吊具夹持，消除了传统半自动治具转运过程中的二次碰撞和磕碰风险，提高了G8.6代掩膜板的整体加工品质。
天眼查资料显示，捷成微系统（惠州）股份有限公司，成立于2004年，位于惠州市，是一家以从事金属制品业为主的企业。企业注册资本2000万人民币。通过天眼查大数据分析，捷成微系统（惠州）股份有限公司共对外投资了1家企业，参与招投标项目3次，财产线索方面有商标信息13条，专利信息41条，此外企业还拥有行政许可9个。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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